High Aspect Ratio Carbon Hard Mask Etch Process for Profile and LCDU Control

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标题	High Aspect Ratio Carbon Hard Mask Etch Process for Profile and LCDU Control
网址	https://doi.org/10.1109/cstic61820.2024.10531956
DOI	10.1109/cstic61820.2024.10531956 doi
其它	期刊：作者：Mengjiao Zhu; Li-Tian Xu; Li Zeng; Hui Qin; Fangmin Guo 出版日期：2024-03-17
求助人	Trip_wyb 在 2026-08-13 00:15:01 发布自湖北，悬赏 10 积分
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