Effect of Mask Geometry Variation on Plasma Etching Profiles

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标题	Effect of Mask Geometry Variation on Plasma Etching Profiles
网址	https://www.mdpi.com/2072-666X/14/3/665/pdf?version=16792799...
DOI	10.3390/mi14030665 doi
其它	期刊：Micromachines 作者：Josip Bobinac; Tobias Reiter; Julius Piso; Xaver Klemenschits; O. Baumgartner; et al 出版日期：2023-03-16
求助人	甜甜钢铁侠在 2026-11-01 07:28:06 发布自中国，悬赏 10 积分
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