Low temperature selective epitaxial growth of SiGe layers using various dielectric mask patterns and process conditions

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标题	Low temperature selective epitaxial growth of SiGe layers using various dielectric mask patterns and process conditions
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2008.02.195
DOI	10.1016/j.apsusc.2008.02.195 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：A-Ram Choi; Sang-Sik Choi; Jin‐Tae Kim; Deok-Ho Cho; T.-H. Han; et al 出版日期：2008-03-31
求助人	Hamil 在 2026-10-21 14:38:32 发布自美国，悬赏 10 积分
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