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Chemical and Nanomechanical Characteristics of Fluorocarbon Thin Films Deposited by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
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网址
https://doi.org/10.3938/jkps.50.1113
DOI
10.3938/jkps.50.1113 doi
其它 期刊：Journal of the Korean Physical Society
作者：Nam‐Kyun Kim; Nam‐Goo Cha; Kyu-Chae Kim; Tae‐Gon Kim; Jin-Goo Park
出版日期：2007-04-14
求助人
amor 在 2025-10-28 13:44:05 发布自四川，悬赏 10 积分
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