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标题
In situ nitrogen doping of β -Ga2O3 during MOCVD homoepitaxy: A theoretical and experimental study
MOCVD同质外延过程中β-Ga2O3原位氮掺杂的理论与实验研究
相关领域
金属有机气相外延 原位 材料科学 氮气 兴奋剂 结晶学 纳米技术 化学 光电子学 外延 图层（电子） 有机化学
网址
https://doi.org/10.1063/5.0288080
DOI
10.1063/5.0288080 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Yaoping Lu; Ancang Yang; Titao Li; Jinxin Zhang; Lemin Jia; et al
出版日期：2025-08-18
求助人
xjc23 在 2025-12-30 10:25:14 发布自荷兰，悬赏 10 积分
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