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标题
Suppressing Stress and Defect Clustering in 8-inch PVT-Grown 4H-SiC Crystals via High-Temperature Post-Growth Annealing
通过高温生长后退火抑制8英寸PVT生长4H-SiC晶体中的应力和缺陷聚集
相关领域
材料科学 残余应力 退火(玻璃) 薄脆饼 晶体缺陷 复合材料 碳化硅 衍射 Crystal(编程语言) 光电子学 双折射 凝聚态物理 压力(语言学) 残余物 温度梯度 结晶学 结晶 格子(音乐) 晶体结构 杂质 单晶 光学 GSM演进的增强数据速率 分子物理学
网址
DOI
10.4028/p-c1COW4 doi
其它 期刊:Solid State Phenomena
作者:Liang Qiao; Ru Sheng Wei; Kai Li Mao; Tian Li; Yu Peng Gao; et al
出版日期:2025-11-19
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loyuanhao 在 2025-12-03 19:30:41 发布自广东,悬赏 30 积分
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