Consequences of low bias frequencies in inductively coupled plasmas on ion angular distributions for high aspect ratio plasma etching

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标题	Consequences of low bias frequencies in inductively coupled plasmas on ion angular distributions for high aspect ratio plasma etching 电感耦合等离子体中低偏置频率对高纵横比等离子体刻蚀离子角分布的影响相关领域薄脆饼材料科学蚀刻（微加工）等离子体感应耦合等离子体光电子学反应离子刻蚀等离子体刻蚀基质（水族馆）深反应离子刻蚀离子光学化学纳米技术图层（电子）物理量子力学海洋学有机化学地质学
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004250
DOI	10.1116/6.0004250 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：E. K. Litch; Hyunjae Lee; Sang Ki Nam; Mark J. Kushner 出版日期：2025-03-10
求助人	含糊的雨安在 2025-06-04 12:10:47 发布自上海，悬赏 10 积分
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