| 标题 |
 Low-temperature etching of silicon oxide and silicon nitride with hydrogen fluoride 氟化氢低温刻蚀氧化硅和氮化硅
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
氟化氢
硅
机车
氧化物
氮化硅
氮化物
氢
氧化硅
氟化物
光电子学
工程物理
无机化学
纳米技术
化学
冶金
图层（电子）
工程类
有机化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Thorsten Lill; Mingmei Wang; Dong‐Jun Wu; Youn-Jin Oh; Tae‐Won Kim; et al 出版日期：2024-11-18 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
不想干活
pcr163
小花排草
七月流火
Bio
113Y
科研助手6
飲啖茶食個包
zchchem
修仙中
herococa
Rubby
罗纳尔不多
iNk
eric888
COSMAO
鬼见愁
热心市民小红花
超帅连虎
yydragen
皖公网安备34019202002308
