| 标题 |
 High-Performance HfO2/Al2O3 Superlattice MIM Capacitor in a 200 mm High-Volume Batch-ALD Platform 相关领域
超晶格
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期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Partha Mukhopadhyay; Ivan Fletcher; Zuriel C. Couvertier; Julio Morris; Jennifer Perez; et al 出版日期：2024-01-27 |
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