Improvement of film uniformity stability of PECVD silicon nitride deposition process by addition of fluorine removal to the plasma clean sequence

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标题	Improvement of film uniformity stability of PECVD silicon nitride deposition process by addition of fluorine removal to the plasma clean sequence
网址	http://dx.doi.org/10.1109/asmc.2005.1438784
DOI	10.1109/asmc.2005.1438784 doi
其它	期刊：IEEE/SEMI Conference and Workshop on Advanced Semiconductor Manufacturing 2005. 作者：Joseph M. Bulger Ailian Zhao 出版日期：暂无
求助人	su 在 2026-09-23 14:20:48 发布自上海，悬赏 10 积分
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