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Evaluation of high-resolution and sensitivity of n-CAR hybrid resist for sub-16nm or below technology node |
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期刊:Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX 作者:Satinder Kumar Sharma; Mohamad Ghulam Moinuddin; Pulikanti Guruprasad Reddy; Chullikkattil P. Pradeep; Subrata Ghosh; Kenneth E. Gonsalves 出版日期:2018-03-20 |
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