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标题
Wafer-Scale Monolithic 3D Integration of CMOS Logic Gates Based on 2D Materials
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DOI
10.23919/VLSITechnologyandCir65189.2025.11074931 doi
其它 期刊:2025 Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits)
作者:Luhing Hu; Jaewoo Shim; Joonyun Kim; Hyeong-Seok Jang; Baekwon Park; Sang Won Kim
出版日期:2025
求助人
YeMa 在 2026-06-23 11:22:29 发布自宁夏,悬赏 10 积分
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