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标题
Unraveling the EUV photoresist reactions: which, how much, and how do they relate to printing performance
揭示EUV光致抗蚀剂反应:它们与印刷性能的关系、程度和关系如何
相关领域
极紫外光刻 抵抗 光刻胶 极端紫外线 平版印刷术 光刻 化学反应 光子 材料科学 纳米技术 化学 光电子学 光学 物理 有机化学 激光器 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/12.2515456 doi
其它 期刊:
作者:Ivan Pollentier; John S. Petersen; Peter De Bisschop; Danilo De Simone; Geert Vandenberghe
出版日期:2019-03-14
求助人
mit 在 2025-10-27 09:32:47 发布自宁夏,悬赏 20 积分
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