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标题
Cavitation-driven nanosecond laser irradiation assisted chemical–mechanical-polishing (CMP) for atomic-scale material removal of 4H-SiC
空化驱动纳秒激光辐照辅助化学机械抛光4H-SiC原子级材料去除
相关领域
化学机械平面化 抛光 材料科学 纳秒 辐照 空化 激光器 原子单位 复合材料 光学 机械 量子力学 物理 核物理学
网址
https://doi.org/10.1016/j.optlastec.2025.113328
DOI
10.1016/j.optlastec.2025.113328 doi
其它 期刊：Optics & Laser Technology
作者：Zirui Wang; Yuguang Zhu; Peng Yang; Tianyu Zhang; Yongguang Wang; et al
出版日期：2025-06-09
求助人
翻斗花园爆破手牛爷爷 在 2025-07-30 10:50:36 发布自吉林，悬赏 10 积分
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