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  Direct Integration of Ferroelectric Hafnium Zirconium Oxide as Top-Gate High−κ Dielectrics for Two-Dimensional Transistors 铁电铪锆氧化物作为二维晶体管顶栅高κ电介质的直接集成
相关领域
铪
材料科学
锆
电介质
晶体管
铁电性
栅极电介质
光电子学
氧化锆
氧化物
高-κ电介质
栅氧化层
工程物理
电气工程
冶金
工程类
电压
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期刊：Research Square - Research Square 作者：Yen‐Fu Lin; Che-Yi Lin; Bo-Cia Chen; Yuchen Liu; S. H. Kuo; et al 出版日期：2024-05-03 |
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