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标题
Enhanced gate biasing resilience in asymmetric and double trench SiC MOSFETs towards generalized highly reliable power electronics
相关领域
材料科学 沟槽 光电子学 浅沟隔离 工程物理 MOSFET 栅氧化层 可靠性(半导体) 击穿电压 电气工程 功率MOSFET 纳米技术 电压 功率(物理) 工程类 图层(电子) 晶体管 物理 量子力学
网址
DOI
10.1016/j.microrel.2024.115342 doi
其它 期刊:Microelectronics Reliability
作者:Dandan Wang; Yifan Zhang; Ruolan Wang; Ruifeng Tang; Kuan Wang; et al
出版日期:2024-02-12
求助人
KULI 在 2026-01-25 12:33:07 发布自天津,悬赏 10 积分
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