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High performance Ge pMOS devices using a Si-compatible process flow 相关领域
PMOS逻辑
物理
晶体管
电气工程
工程类
电压
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期刊:International Electron Devices Meeting 作者:P. Zimmerman; G. Nicholas; B. D. Jaeger; B. Kaczer; A. Stesmans; et al 出版日期:2006-01-01 |
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