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![]() 用于高性能FinFET技术的亚10 nm图案化衬底上Si鳍的垂直MBE生长*
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期刊:Chinese Physics B 作者:Shuang Sun; Jian‐Huan Wang; Bao-Tong Zhang; Xiaokang Li; Qifeng Cai; et al 出版日期:2021-04-09 |
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志文
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2025-08-29 22:28:40 发布,悬赏 10 积分
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