Surface generation and material removal behaviors in chemical–mechanical polishing of diamond with mixed abrasives

抛光 化学机械平面化 钻石 磨料 材料科学 表面粗糙度 泥浆 复合材料 表面光洁度 磨损(机械) 冶金 金刚石切割 硬度 过程(计算) 表面处理
作者
Kechong Wang,Chen Li,Ning Yang,Xiang Li,Yukui Wang,Oleg Zakharov
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:727: 165989-165989 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2026.165989
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