Modeling of a Growing Oxide Film: The Iron/Iron Oxide System

氧化物 铁质 溶解 氧化铁 动力学 钝化 材料科学 焊剂(冶金) 无机化学 化学 金属 冶金 物理化学 物理 纳米技术 经典力学 图层(电子)
作者
Vincent Battaglia,John Newman
出处
期刊:Journal of The Electrochemical Society [Institute of Physics]
卷期号:142 (5): 1423-1430 被引量:54
标识
DOI:10.1149/1.2048591
摘要

The full set of equations necessary for describing the growth of an oxide film is presented. The analysis includes methods of combining equations for systems with rapid kinetics and a derivation of the high‐field equation. The boundary conditions on the flux equations, Poisson's equation, and the velocity of the interface are also discussed. The methodology is then applied to the iron/iron oxide system, including reactions of electrons and iron interstitials at the metal/oxide and oxide/solution interfaces. Simulations, using the low‐field equation, are compared to experimental results. It is found, in agreement with experiments, that passivation does not occur until 200 mV above the potential where the formation of an oxide is thermodynamically possible: the oxide formation reaction is overwhelmed by the fast kinetics of the iron dissolution to ferrous ions.
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