Surface modification of InVO4 nanoparticles on WO3 plate array films for improved photoelectrochemical performance

表面改性 材料科学 退火(玻璃) 光电子学 纳米颗粒 化学工程 纳米技术 曲面(拓扑) 复合材料 工程类 数学 几何学
作者
Guanhua Jin,Suqin Liu,Zhiying Ding
出处
期刊:RSC Advances [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:6 (58): 53393-53399 被引量:6
标识
DOI:10.1039/c6ra07629g
摘要

Surface modification of InVO4 nanoparticles on WO3 plates array films using a dipping–annealing method.
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