Exchange between Interlayer and Intralayer Exciton in WSe2/WS2 Heterostructure by Interlayer Coupling Engineering

激子 异质结 凝聚态物理 单层 范德瓦尔斯力 联轴节(管道) 材料科学 极限抗拉强度 电子能带结构 过渡金属 带隙 化学 纳米技术 物理 复合材料 分子 生物化学 有机化学 催化作用
作者
Mengqi Zhu,Zhineng Zhang,Tao Zhang,Dongdong Liu,Hao Zhang,Zhenxiao Zhang,Zhuolun Li,Yingchun Cheng,Wei Huang
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:22 (11): 4528-4534 被引量:31
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.2c01353
摘要

Because of type-II band alignment, interlayer exciton (IX) is found in a van der Waals (vdW) heterostructure (HS) formed by two monolayers of transition-metal dichalcogenides. Manipulation of IXs is of great importance for excitonic integrated devices. Here, we demonstrate that high pressure and tensile strain can be applied to enhance and reduce interlayer coupling of WSe2/WS2 HS, respectively. High pressure induces the transform of intralayer excitons to IX, while tensile strain leads to the transform of IXs to intralayer excitons. In addition, there is a direct-to-indirect band gap transition of WSe2/WS2 HS. The interlayer distance of WSe2/WS2 HS is reduced under high pressure, but it increased under uniaxial tensile strain from first-principles calculations. The calculated band structures explain well the transformation between interlayer and intralayer excitons of WSe2/WS2 HS. This work demonstrates the exchange of interlayer and intralayer excitons and paves the way to manipulate excitons of HS for excitonic applications.
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