Effects of annealing on gap states in amorphous Si films

作者
S. Hasegawa,S. Yazaki,Tatsuo Shimizu
出处
期刊:Solid State Communications [Elsevier BV]
卷期号:26 (7): 407-410 被引量:109
标识
DOI:10.1016/0038-1098(78)90515-x

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