Atomic Structure of Domain and Interphase Boundaries in Ferroelectric HfO2

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作者
Everett D. Grimley,Tony Schenk,Thomas Mikolajick,Uwe Schroeder,James M. LeBeau
出处
期刊:Advanced Materials Interfaces [Wiley]
卷期号:5 (5) 被引量:133
标识
DOI:10.1002/admi.201701258
摘要

Abstract Though ferroelectric HfO 2 thin films are now well characterized, little is currently known about their grain substructure. In particular, the formation of domain and phase boundaries requires investigation to better understand phase stabilization, switching, and phase interconversion. Here, scanning transmission electron microscopy is applied to investigate the atomic structure of boundaries in these materials. It is found that orthorhombic/orthorhombic domain walls and coherent orthorhombic/monoclinic interphase boundaries form throughout individual grains. The results inform how interphase boundaries can impose strain conditions that may be key to phase stabilization. Moreover, the atomic structure near interphase boundary walls suggests potential for their mobility under bias, which has been speculated to occur in perovskite morphotropic phase boundary systems by mechanisms similar to domain boundary motion.
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