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作者
Rémi Dussart,
Gaëlle Antoun,
Thomas Tillocher,
Loı̈c Becerra,
Philippe Lefaucheux
出处
期刊:
Plasma Chemistry and Plasma Processing
[Springer Science+Business Media]
日期:2025-12-11
卷期号:46 (1)
标识
DOI:10.1007/s11090-025-10622-8
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