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The Change of I-V Characteristics by Gate Voltage Stress on Few Atomic Layered MoS 2 Field Effect Transistors

材料科学 场效应晶体管 光电子学 压力（语言学） 晶体管 电压 阈值电压 电气工程 工程类 语言学 哲学
作者
Lee Hyung Gyoo,Gi Sung Lee
出处
期刊：Journal of KIEEME [The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers]
日期：2018-01-01 卷期号：31 (3): 135-140 被引量：1
链接
or.krdoi.org
标识
DOI：10.4313/jkem.2018.31.3.135
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