Investigation of Plasma Activation Directions for Low-Damage Direct Bonding

材料科学 等离子体 工程物理 复合材料 核物理学 工程类 物理
作者
Shicheng Zhou,Xiaoyun Qi,Hui Fang,Chenxi Wang
出处
期刊:ECS Journal of Solid State Science and Technology [Institute of Physics]
标识
DOI:10.1149/2162-8777/abb8bd
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