Study of Anti-Glare Pattern Forming Process by Glass Etching for Improved Image Quality

光泽度(光学) 薄雾 材料科学 复合材料 表面光洁度 表面粗糙度 蚀刻(微加工) 各向同性腐蚀 光学 透射率 光电子学 涂层 图层(电子) 物理 气象学
作者
Heesu Woo,Jiwan Kim,Seunggu Kang
出处
期刊:Journal of Nanoscience and Nanotechnology [American Scientific Publishers]
卷期号:21 (3): 1937-1942 被引量:1
标识
DOI:10.1166/jnn.2021.18930
摘要

In this paper, the anti-glare characteristics of strengthened glass used in the dashboard of automobiles were improved to enhanced the ability of the driver to read the display. To this end, the glass surface was etched with a solution containing HF as a main component. We adjusted the concentration of the etching solution and the etching time as variables, and the transmittance, gloss, haze value, etc. of the etched glass were measured. On the etched glass surface, an irregular pattern mainly containing dioxonium hexa-fluorosilicate crystal phases was generated, and controlling the pattern could improve the anti-glare characteristics of the glass. With higher concentration of the etching solution and longer etching time, the light transmittance, reflectance, and gloss of the etched glass were accordingly lower, while the haze value increased. We discussed the relationship between these property changes and the surface microstructure, pattern components, and roughness of the etched glass.
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