Nanoscale stress and microstructure gradients across a buckled Mo-Cu bilayer: Cu self-annealing triggered by interface delamination

材料科学 微观结构 纳米尺度 双层 退火(玻璃) 分层(地质) 复合材料 压力(语言学) 冶金 纳米技术 遗传学 俯冲 构造学 生物 语言学 哲学 古生物学
作者
Alice Lassnig,Juraj Todt,Michael Tkadletz,Stanislav Žák,Christian Mitterer,Aïcha Medjahed,Manfred Burghammer,Jozef Kečkéš,Megan J. Cordill,Michael Meindlhumer
出处
期刊:Acta Materialia [Elsevier BV]
卷期号:283: 120465-120465 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.actamat.2024.120465

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