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Characterization of silicon carbide thin films prepared by VHF-PECVD technology

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作者
S. Zhang,Leandro Raniero,Elvira Fortunato,L. Pereira,N. Martins,P. Canhola,I. Ferreira,N. Nedev,Hugo Águas,Rodrigo Martins
出处
期刊：Journal of Non-crystalline Solids [Elsevier BV]
日期：2004-05-08 卷期号：338-340: 530-533 被引量：21
标识
DOI：10.1016/j.jnoncrysol.2004.03.035
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