High-sensitivity characterization of ultra-thin atomic layers using spin-Hall effect of light

坡莫合金 克尔效应 薄膜 表征(材料科学) 材料科学 凝聚态物理 矫顽力 自旋极化 电介质 磁光克尔效应 磁场 光电子学 磁化 纳米技术 物理 电子 非线性系统 量子力学
作者
Janmey Jay Panda,Krishna Rani Sahoo,Aparna Praturi,Ashique Lal,Nirmal K. Viswanathan,Tharangattu N. Narayanan,G. Rajalakshmi
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:132 (7) 被引量:3
标识
DOI:10.1063/5.0102355
摘要

The fast-emerging diverse applications using a variety of magnetic/non-magnetic heterostructure ultra-thin films warrant the sensitive characterization of the electrical, optical, and magnetic properties of the interface. As a practical alternate to the conventional magneto-optic Kerr effect (MOKE) method, we propose and demonstrate the spin-Hall effect of the light (SHEL)-based MOKE method with competitive sensitivity and scope for further improvement. The SHEL-MOKE technique is a versatile surface characterization tool for studying materials’ magnetic and dielectric ordering, which are extracted from the variations to the phase-polarization characteristics of a focused beam of light reflected at the interface, as a function of the applied magnetic field. Using this technique, we measure the magnetic field dependent complex Kerr angle and the coercivity in ultra-thin films of permalloy (Py) and at molybdenum disulfide (MoS2)—permalloy (MSPy) hetero-structure interfaces. A comprehensive theoretical model and simulation data are provided to strengthen the potential of this simple non-invasive optical method. The theoretical model is subsequently applied to extract the optical conductivity of non-magnetic ultra-thin layers of MoS2.
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