Simulations of Anisotropic Monolayer GaSCl for p-Type Sub-10 nm High-Performance and Low-Power FETs

材料科学 单层 光电子学 功率(物理) 各向异性 纳米技术 光学 量子力学 物理
作者
Hao Shi,Siyu Yang,Huipu Wang,Dupeng Ding,Yang Hu,Hengze Qu,Chuyao Chen,Xuemin Hu,Shengli Zhang
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:16 (30): 39592-39599 被引量:3
标识
DOI:10.1021/acsami.4c06320
摘要

Two-dimensional materials have been extensively studied in field-effect transistors (FETs). However, the performance of p-type FETs has lagged behind that of n-type, which limits the development of complementary logical circuits. Here, we investigate the electronic properties and transport performance of anisotropic monolayer GaSCl for p-type FETs through first-principles calculations. The anisotropic electronic properties of monolayer GaSCl result in excellent device performance. The p-type GaSCl FETs with 10 nm channel length have an on-state current of 2351 μA/μm for high-performance (HP) devices along the y direction and an on-state current of 992 μA/μm with an on/off ratio exceeding 107 for low-power (LP) applications along the x direction. In addition, the delay-time (τ) and power dissipation product of GaSCl FETs can fully meet the International Technology Roadmap for Semiconductors standards for HP and LP applications. Our work illustrates that monolayer GaSCl is a competitive p-type channel for next-generation devices.
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