Suppression of Threshold Voltage Variation by H₂ Plasma Improved KrF Photoresist Profile

光刻胶 阈值电压 等离子体 材料科学 光电子学 电压 抵抗 物理 电气工程 晶体管 纳米技术 工程类 核物理学 图层(电子)
作者
Chenghao Liang,Ran Bi,Hao Liu,Song He,Hang Li,Yu-Long Jiang
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:71 (9): 5624-5629
标识
DOI:10.1109/ted.2024.3433311
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