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作者
Jiping Zhao,Jingjing Liu,Xiaoxuan Zhu,Beibei Wang,Hongbing Cai,Jingsong Xu
摘要
This study reveals for the first time the influence mechanism of the dual-layer structure in the native passivation film on the dielectric breakdown of Ta 2 O 5 , providing critical insights for enhancing the reliability of tantalum capacitors.
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