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Strain Tunable Semimetal–Topological-Insulator Transition in Monolayer 1T′−WTe2

拓扑绝缘体 单层 凝聚态物理 扫描隧道显微镜 材料科学 分子束外延 拓扑(电路) 电导 拓扑序 相变 应变工程 扫描隧道光谱 量子隧道 物理 外延 量子 纳米技术 量子力学 数学 组合数学 图层(电子)
作者
Chenxiao Zhao,Mengli Hu,Qin Jin,Bing Xia,Canhua Liu,Shiyong Wang,Dandan Guan,Yaoyi Li,Hao Zheng,Junwei Liu,Jinfeng Jia
出处
期刊:Physical Review Letters [American Physical Society]
卷期号:125 (4) 被引量:91
标识
DOI:10.1103/physrevlett.125.046801
摘要

A quantum spin hall insulator(QSHI) is manifested by its conducting edge channels that originate from the nontrivial topology of the insulating bulk states. Monolayer 1T'-WTe2 exhibits this quantized edge conductance in transport measurements, but because of its semimetallic nature, the coherence length is restricted to around 100 nm. To overcome this restriction, we propose a strain engineering technique to tune the electronic structure, where either a compressive strain along a axis or a tensile strain along b axis can drive 1T'-WTe2 into an full gap insulating phase. A combined study of molecular beam epitaxy and in-situ scanning tunneling microscopy/spectroscopy then confirmed such a phase transition. Meanwhile, the topological edge states were found to be very robust in the presence of strain.

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