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 Texturing of silicon nitride passivation layers on functional behaviour study of polycrystalline silicon (p-Si) made with plasma enhanced chemical vapour deposition 氮化硅钝化层的织构化等离子体增强化学气相沉积多晶硅（p-Si）功能行为研究
相关领域
材料科学
钝化
氮化硅
多晶硅
硅
化学气相沉积
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期刊：Journal of Materials Science Materials in Electronics 作者：R. Venkatesh; Viyat Varun Upadhyay; S. Prabagaran; S. Govindarajan; Apurv Verma; et al 出版日期：2024-12-31 |
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