| 标题 |
 Control of Ta/Cu selectivity in barrier chemical mechanical planarization via surface-charge-modified silica abrasives 相关领域
选择性
化学机械平面化
Zeta电位
材料科学
化学工程
扫描电子显微镜
X射线光电子能谱
热重分析
铜
透射电子显微镜
化学
分析化学（期刊）
无机化学
金属化
纳米技术
红外光谱学
傅里叶变换红外光谱
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期刊：Applied Surface Science 作者：Jongyeong Jeon; Hyunho Kim; Dayoung Yu; Junhyeong Jeon; Kieun Kwak; et al 出版日期：2026-02-01 |
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