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标题
Sidewall passivation during the etching of poly-Si in an electron cyclotron resonance plasma of HBr
网址
http://dx.doi.org/10.1116/1.587115
DOI
10.1116/1.587115 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena
作者：M. Haverlag; G. S. Oehrlein; D. Vender
出版日期：1994-01-01
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可乐不珍珍 在 2026-07-14 20:27:35 发布自安徽，悬赏 10 积分
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