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 Physical approach to enhance the selectivity of SiO2 area-selective deposition using substrate biasing 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Arthur A. de Jong; Marc J. M. Merkx; Wilhelmus W. M. Kessels; Adriaan J. M. Mackus 出版日期：2026-02-11 |
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