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标题
Nanoscale patterning at the Si/SiO2/graphene interface by focused He+ beam
相关领域
材料科学 石墨烯 拉曼光谱 离子 聚焦离子束 离子束 单层 纳米尺度 拉曼散射 辐照 分析化学（期刊） 纳米技术 分子物理学 光学 物理 量子力学 核物理学 化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6528/abb5cf
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1088/1361-6528/abb5cf doi
其它 期刊：Nanotechnology
作者：Artur Böttcher; Ruth Schwaiger; Tobias M. Pazdera; Daniela Exner; Jakob Hauns; et al
出版日期：2020-09-07
求助人
11234 在 2025-10-09 21:03:08 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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