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标题
Characteristics of a two-component chemically-assisted ion-beam etching technique for dry-etching of high-speed multiple quantum well laser mirrors
高速多量子阱激光反射镜干法刻蚀的双组分化学辅助离子束刻蚀技术特性
相关领域
材料科学 干法蚀刻 蚀刻（微加工） 光电子学 激光器 包层（金属加工） 反应离子刻蚀 各向同性腐蚀 量子阱 光学 纳米技术 复合材料 图层（电子） 物理
网址
https://doi.org/10.1063/1.114697
AI链接 fraunhofer.dedoi.org
DOI
10.1063/1.114697 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：R. E. Sah; J.D. Ralston; S. Weisser; K. Eisele
出版日期：1995-08-14
求助人
HE 在 2026-01-02 00:59:07 发布自美国，悬赏 10 积分
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