| 标题 |
 High-NA EUV lithography optics becomes reality 相关领域
极紫外光刻
光学
数值孔径
平版印刷术
光圈（计算机存储器）
X射线光学
扫描仪
物理光学
物理
计算机科学
波长
X射线
声学
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| DOI |
10.1117/12.2543308
doi
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| 其它 |
期刊：Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI 作者：Lars Wischmeier; Paul Gräupner; Peter Kürz; Winfried Kaiser; Jan Van Schoot; et al 出版日期：2020-03-23 |
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