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 Dual nonionic photoacids synergistically enhanced photosensitivity for chemical amplified resists 双非离子光酸协同增强化学放大抗蚀剂的光敏性
相关领域
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| 其它 |
期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Ling‐Yan Peng; Shi‐Li Xiang; Jun‐Dan Huang; Ying‐Yi Ren; Hong Pan; et al 出版日期：2024-01-17 |
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