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 Heteroepitaxial growth of the orthorhombic Ta2O5 single-crystalline films on epi-GaN/α-Al2O3 (0001) substrates by MOCVD MOCVD法在epi-GaN/α-Al2O3（0001）衬底上异质外延生长正交Ta2O5单晶薄膜
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分析化学（期刊）
异质结
薄膜
结晶学
透射电子显微镜
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期刊：Ceramics International 作者：Yong Le; Xiaochen Ma; Di Wang; Hongdi Xiao; Caìna Luan; et al 出版日期：2022-05-31 |
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