Gas‐phase kinetic of boron carbide chemical vapor deposition using BCl 3 +CH 4 +H 2 mixture

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标题	Gas‐phase kinetic of boron carbide chemical vapor deposition using BCl 3 +CH 4 +H 2 mixture BCl3+CH4+H2混合气相沉积碳化硼的气相动力学相关领域碳化硼化学气相沉积硼反应机理分解沉积（地质）热分解动能化学反应化学工程相（物质）化学碳化物材料科学热解基本反应热力学动力学纳米技术有机化学冶金物理工程类古生物学生物催化作用量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1111/jace.18396
DOI	10.1111/jace.18396 doi
其它	期刊：Journal of the American Ceramic Society 作者：Anand Gupta; Shikhar Nigam; V. M. Shinde 出版日期：2022-02-09
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