Effects of the focus ring on the ion kinetics at the wafer edge in capacitively coupled plasma reactors

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标题	Effects of the focus ring on the ion kinetics at the wafer edge in capacitively coupled plasma reactors
网址	https://doi.org/10.1116/6.0002585
DOI	10.1116/6.0002585 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Fang-Fang Ma; Quan-Zhi Zhang; Dao-Man Han; Zi-Lan Xiong; Ming Gao; You-Nian Wang 出版日期：2023
求助人	等待绮兰在 2026-03-16 13:33:10 发布自中国，悬赏 10 积分
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