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 Photoresists with precisely controlled molecular weight, composition and sequence 具有精确控制分子量、组成和顺序的光致抗蚀剂
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期刊： 作者：Florian Käfer; Zoey Meng; Rachel A. Segalman; Javier Read de Alaniz; Christopher K. Ober 出版日期：2023-05-01 |
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