Multitechnique metrology methods for evaluating pitch walking in 14 nm and beyond FinFETs

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标题	Multitechnique metrology methods for evaluating pitch walking in 14 nm and beyond FinFETs
网址	http://dx.doi.org/10.1117/1.JMM.13.4.041109
DOI	10.1117/1.JMM.13.4.041109 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3 SPIE官方期刊综述)
求助人	高高梦松在 2026-07-20 19:30:28 发布自安徽，悬赏 20 积分
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