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Effect of ammonium halide salts on wet chemical nanoscale etching and polishing of InGaAs surfaces for advanced CMOS devices
卤化铵盐对先进CMOS器件InGaAs表面湿化学纳米级刻蚀和抛光的影响
相关领域
化学机械平面化 材料科学 泥浆 溶解 氧化物 蚀刻（微加工） X射线光电子能谱 各向同性腐蚀 表面粗糙度 无机化学 化学工程 卤化物 图层（电子） 纳米技术 化学 冶金 复合材料 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107469
DOI
10.1016/j.mssp.2023.107469 doi
其它 期刊：Materials Science in Semiconductor Processing
作者：Suprakash Samanta; Seungwan Jin; Chanhee Lee; Seongsoo Lee; Herbert Struyf; et al
出版日期：2023-03-22
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牛奶奶爱喝纯牛奶 在 2025-08-27 20:15:20 发布，悬赏 10 积分
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