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 Effect of ammonium halide salts on wet chemical nanoscale etching and polishing of InGaAs surfaces for advanced CMOS devices 卤化铵盐对先进CMOS器件InGaAs表面湿化学纳米级刻蚀和抛光的影响
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Suprakash Samanta; Seungwan Jin; Chanhee Lee; Seongsoo Lee; Herbert Struyf; et al 出版日期：2023-03-22 |
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