Feasibility of molecular dynamics simulation for process parameter guidance of silicon nitride thin films by PECVD

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标题	Feasibility of molecular dynamics simulation for process parameter guidance of silicon nitride thin films by PECVD
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.159401
DOI	10.1016/j.apsusc.2024.159401 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Xiaoni Yang; Majiaqi Wu; Maoliang Jian; Shuai Zhu; Jinwu Jiang; et al 出版日期：2024-05-01
求助人	xkyasc 在 2026-09-16 15:10:15 发布自浙江，悬赏 10 积分
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